Ferroelectric Thin Films Basic Properties and Device Physics for Memory Applications /
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| Autor Principal: | |
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| Autor Corporativo: | |
| Otros Autores: | |
| Formato: | Electrónico |
| Idioma: | English |
| Publicado: |
Berlin, Heidelberg :
Springer-Verlag Berlin/Heidelberg,
2005.
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| Series: | Topics in Applied Physics,
98 |
| Materias: | |
| Acceso en línea: | SpringerLink, via BECYT |
| Etiquetas: |
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