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X-ray diffraction at elevated temperatures : a method for in situ process analysis /

Guardado en:
Otros Autores: Chung, Deborah D. L.
Formato: Libro
Idioma:English
Publicado: New York : VCH, c1993.
Materias:
Rayos-X > Difracción.
Rayos-X > Aplicaciones industriales.
X-rays > Diffraction.
X-rays > Industrial applications.
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BIB. PLAPIQUI
Ubicación de la biblioteca
Volumen/Tomo: No especificado
Ejemplares: 1
Signatura: 548.83 Ex 81

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