X-ray diffraction at elevated temperatures : a method for in situ process analysis /

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Otros Autores: Chung, Deborah D. L.
Formato: Libro
Idioma:English
Publicado: New York : VCH, c1993.
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Descripción Física:viii, 268 p. : il. ; 24 cm.
Bibliografía:Incluye referencias bibliográficas e índice.
ISBN:0895737450
3527278427