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Quantitative X-ray diffractometry /

Guardado en:
Autor Principal: Zevin, Lev S.
Otros Autores: Kimmel, Giora., Mureinik, Inez., (Editor , ed.)
Formato: Libro
Idioma:English
Publicado: New York : Springer, c1995.
Materias:
Rayos-X > Difracción.
Rayos-X > Aplicaciones industriales.
X-rays > Diffraction.
X-rays > Industrial applications.
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245 1 0 |a Quantitative X-ray diffractometry /  |c Lev S. Zevin, Giora Kimmel ; edited by Inez Mureinik. 
260 |a New York :  |b Springer,  |c c1995. 
300 |a xvii, 372 p. :  |b il. ;  |c 25 cm. 
504 |a Incluye referencias bibliográficas (p. 355-364) e índice. 
020 |a 0387945415 (hc : alk. paper) 
100 1 |a Zevin, Lev S. 
700 1 |a Kimmel, Giora. 
700 1 |a Mureinik, Inez.,  |e ed.  |4 edt 
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040 |a DLC  |c DLC  |d AR-BbSID 
859 |a AR-BbSID  |b BIB. PLAPIQUI  |h 545.81  |i Z 6  |p 5513 

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